УДК 621.315.592 Исследование влияния электронного облучения Дружинин А. А., Марьямова И. И., Кутраков А. П., Ключевые слова: кремний, тензорезистор, электронное облучение. Изучено влияние облучения электронами высоких энергий на характеристики полупроводниковых тензорезисторов на основе нитевидных кристаллов кремния р-типа, легированных бором. Облучение тензорезисторов проводилось при комнатной температуре электронами с энергией 4,2—14 МэВ дозами 5·1016—1·1018эл/см2. Измерения основных параметров облученных тензорезисторов — сопротивления, его температурной зависимости и зависимости изменения сопротивления от деформации — проводились в различных температурных диапазонах: –196…+100°C и –269…+20°C. Определены значения энергии и дозы электронов, при которых обеспечивается радиационная стойкость тензорезисторов. Украина, г. Львов, Национальный университет «Львовская политехника»; г. Ужгород, Институт электронной физики НАН Украины. *** Study of silicon strain gauges under electron irradiation Druzhinin A. A., Maryamova I. I., Kutrakov A. P., Liakh-Kaguj N. S., Masluk V. T., Mehela I. G. The characteristics of semiconductor strain gauges based on boron doped р-type silicon whiskers under high energy electron irradiation were studied. Strain gauges were irradiated at room temperature by electrons with energies 4,2—14 MeV and different doses 5·1016—1·1018 el/cm2. The main parameters of irradiated strain gauges: resistance, its temperature dependence and resistance change vs strain at –196…+100°C and –269…+20°C temperature ranges were measured. There are determined the values of electron irradiation energy and dose at which the radiation stability of strain gauges could be ensured. |