УДК 621.315.592

Свойства металлических контактов на пленках TiO₂,
изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

Брус В. В., Ковалюк З. Д., Марьянчук П. Д., Орлецкий И. Г., Майструк Э. В.

Ключевые слова: диоксид титана, пленки, магнетронное распыление.

Исследовались вольт-амперные характеристики металлических контактов (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства. Измерения ВАХ металлических контактов проводились с помощью трехзондового метода. Установлено, что контакт индия на тонких пленках TiO₂ обладает четко выраженными омическими свойствами.

Украина, Черновицкое отделение ИПМ НАНУ, ЧНУ им. Юрия Федьковича.

***

The properties of metal contacts on TiO₂ thin films produced
by reactive magnetron sputtering

Brus V. V., Kovaluk Z. D., Maryanchuk P. D., Orletsky I. G., Maystruk E. V.

The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO₂ thin films possessed sharply defined ohmic properties.