Управління падінням напруги кремнієвого діода шляхом опромінення електронами та термічної обробки

  • А. В. Карімов Фізико-технічний інститут НВО «Фізика–Сонце» АН РУз, Узбекистан, Ташкент
  • А. З. Рахматов Фізико-технічний інститут НВО «Фізика–Сонце» АН РУз, Узбекистан, Ташкент
  • O. A. Абдулхаєв Фізико-технічний інститут НВО «Фізика–Сонце» АН РУз, Узбекистан, Ташкент https://orcid.org/0000-0002-8822-1187
  • У. Х. Аріпова Фізико-технічний інститут НВО «Фізика–Сонце» АН РУз, Узбекистан, Ташкент
  • А. Ю. Хідірназарова Фізико-технічний інститут НВО «Фізика–Сонце» АН РУз, Узбекистан, Ташкент
  • Ш. М. Кулієв Фізико-технічний інститут НВО «Фізика–Сонце» АН РУз, Узбекистан, Ташкент
Ключові слова: дифузний діод, вольт-амперна характеристика, ємнісна характеристика, радіаційне опромінення, термічна обробка, падіння напруги

Анотація

Високочастотні випрямні обмежувальні діоди використовуються в джерелах живлення для випрямлення змінного струму, в елементах захисту радіоелектронного обладнання, а також в перемикальних пристроях. Вони складають основу пристроїв енергоощадних технологій, відповідаючи високим вимогам щодо витримуваної потужності і стабільності параметрів. Основним завданням у технологічному процесі виготовлення високочастотних діодів є забезпечення оптимального значення прямого падіння напруги, яке можна порівняти з контактною різницею потенціалів р—n-переходу, і малого струму витоку.
Дана робота присвячена вивченню впливу радіаційного опромінення та подальшої термічної обробки на вольт-амперні та ємнісні характеристики високочастотних кремнієвих діодів.
Досліджувалися діоди з р+—р—n—n+-структурою, виготовлені з пластин кремнію КЕФ-4 n-типу провідності вихідною товщиною 235 мкм. Радіаційну обробку проводили на лінійному прискорювачі електронів ЕЛУ-6. Інтегральний потік «швидких» електронів складав від 1,0·1015 до 2,6·1017 см–2, енергія 1,5 МеВ, щільність 1,7·1011 — 5,5·1013 см–2·с–1. Термічну обробку проводили протягом 5 годин за температури 90°С у спеціальній камері.
На основі проведених досліджень показано, що термообробка призводить до зміщення прямої вольт-амперної характеристики в область менших напруг (тобто заданий струм можна досягти за меншої напруги), однак за малих значень струму падіння напруги після термобработкі може збільшитися. Зворотній струм зменшується в п’ять разів, спричиняючи зменшення виділеної потужності. При цьому також покращуються і часові характеристики діода за рахунок зниження ємності (до одного порядку).

Посилання

Sinitsa A.V., Glukhov A.V., Skornyakov S.P., Karimov A.V., Rakhmatov A.Z. [Some features of designing powerful rectifier-limiting diodes for network protection devices]. Power electronics, 2015, no. 3, pp. 54–56. (Rus)

Hazdra P., Vobecky J., Dorschner H., Brand K. Axial lifetime control in silicon power diodes by irradiation with protons, alphas, low- and high-energy electrons. Microelectronics Journal, 2004, vol. 35, no. 3, pp. 249–257. https://doi.org/10.1016/S0026-2692(03)00194-0

Kozlov V. A., Kozlovski V. V. Doping of semiconductors using radiation defects produced by irradiation with protons and alpha particles. Semiconductors, 2001, vol. 35, iss. 7, pp. 735–761. https://doi.org/10.1134/1.1385708.

Vobecky J., Hazdra P., Zahlava V. Impact of the electron, proton and helium irradiation on the forward I–V characteristics of high-power P–i–N diode. Microelectronics Reliability, 2003, vol. 43, no. 4, pp. 537–544. https://doi. org/10.1016/S0026-2714(03)00023-4

Lagov P.B., Drenin A.S. Development of radiation technology for precision control of switching characteristics of silicon power devices. Proceedings of the International Scientific and Technical Leonardo da Vinci Conference. Wissenschaftliche Welt, 2013, vol. 1, pp. 130–132. (Rus)

Rakhmatov A. Z., Petrov D.A., Karimov A.V. et al. Influence of neutron radiation on breakdown voltage of silicon voltage limiter. Radioelectronics and Communication Systems, 2012, vol. 55, iss. 7, pp. 332–334. https://doi.org/10.3103/S0735272712070060

Poklonski N. A., Gorbachuk N. I., Tarasik M. I. et al. Effects of fluences of irradiation with 107 MeV krypton ions on the recovery charge of silicon p+-n-diodes. Acta Physica Polonica A, 2011, vol. 120, no. 1, pp. 111–114. https://doi.org/10.12693/APhysPolA.120.111

Rakhmatov A.Z., Karimov A.V., Sandler L.S., Yodgorova D.M., Skornyakov S.P. [Influence of gamma and electron irradiation on the key parameters of high-power highfrequency diffusion diodes]. Components and technologies, St. Petersburg, 2013, no. 10, pp. 140–142. (Rus)

Ladygin E.A., Orlova M.N., Volkov D.L. [The main types of radiation centers and their influence on the electrophysical parameters of silicon diode structures during processing by fast electrons]. Journal Materials of Electronics, 2007, no. 2, pp. 22–27. (Rus)

Sze S.M., Kwok K.Ng. Physics of Semiconductor Devices. Hoboken-New Jersey, Wiley-Interscience, 2007, 477 p.

Опубліковано
2018-08-28
Як цитувати
Карімов, А. В., Рахматов, А. З., АбдулхаєвO. A., Аріпова, У. Х., Хідірназарова, А. Ю., & Кулієв, Ш. М. (2018). Управління падінням напруги кремнієвого діода шляхом опромінення електронами та термічної обробки. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (4), 33-37. https://doi.org/10.15222/TKEA2018.4.33