Особенности формирования быстровосстанавливающихся кремниевых диодов

  • А. Н. Горбань Запорожский институт государственного и муниципального управления, Украина
  • В. В. Кравчина Запорожский институт государственного и муниципального управления, Украина
  • Д. М. Гомольский ОАО "Элемент-Преобразователь", Запорожье, Украина
  • А. И. Солодовник ОАО "Элемент-Преобразователь", Запорожье, Украина
Ключові слова: диод, облучение электронами, флюэнс, время восстановления, скорость эмиссии, энергия

Анотація

Исследована зависимость времени восстановления тока trr от параметров отжига диодных структур после их облучения электронами е с энергией 4 и 10 МэВ флюэнсами 6·1015 и 8·1014 см–2, соответственно. Диоды с минимальным временем trr и максимальным коэффициентом формы Кrr тока восстановления получены при отжиге структур после облучения е с энергией 4 МэВ и флюэнсом 6·1015 см–2. Время trr уменьшается при увеличении отношения концентрации центров рекомбинации Е3(0,37) к концентрации других дефектов. При этом для кремния, легированного при помощи трансмутационных ядерных реакций, необходимо повышать температуру отжига по сравнению с кремнием Чохральского и зонной плавки.

Опубліковано
2008-06-30
Як цитувати
Горбань, А. Н., Кравчина, В. В., Гомольский, Д. М., & Солодовник, А. И. (2008). Особенности формирования быстровосстанавливающихся кремниевых диодов. Технологія та конструювання в електронній апаратурі, (3), 36-40. вилучено із https://tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2008.3.36